광전자, 이미징 기술 및 인공 지능과 같은 최첨단 분야에서마이크로 렌즈 배열 가공 공정성능의 우열과 응용 확장에 관한 요구가 가혹하며, 다음은 다방면에서 핵심 요점을 분석한다.

재료 선발은 기초이므로 광학 특질과 기계 안정성을 모두 고려해야 한다.석영은 초고투과율, 저굴절률 온도계수로 자외선에서 근적외선까지의 대역의 이상적인 선택이 되어 광선에 정확하게 초점을 맞추고 색차 간섭을 줄일 수 있다;폴리메틸프로필렌산메틸 (PMMA) 은 양호한 소형성, 비교적 경질과 적중 굴절률로 인해 적외선 영상 및 경량화 수요 장면에 적합하여 대규모 제조에 유리하다.재료를 선정한후 순도를 엄격히 통제하면 미량의 불순물이 모두 광선을 산란하고 진열의 균일성을 낮출수 있다.

정밀도는 제어를 가공 전 과정에 일관시키고, 치수 공차는"밀리 필구"에 가깝다.단일 마이크로렌즈의 직경 편차는 마이크로미터급으로 제어하여 배열이 긴밀하고 간격이 균일하도록 확보해야 한다. 그렇지 않으면 광로가 문란하고 영상이 왜곡되거나 결합 효율이 뚝 떨어진다;표면의 조잡도 역시 다나미급을 요구하며, 매끄러운 표면은 광선의 굴절, 반사를 보장하여 설계 궤적을 따르고, 산란 손실을 줄이며, 이는 가공 설비의 해상도, 공정 안정성에 높은 도전을 제기한다.

공예 고리는 서로 연결되어 있고, 광각 기술은 깊은 자외선 광각을 이용하여 설계 도안을 정확하게 기저로 옮기고, 해상도는 100나노미터 이하에 달하며, 마이크로 렌즈의 초기 윤곽을 그린다;이어서 식각 공예 릴레이, 건식 식각은 각 방향의 이성이 좋고, 수직으로 재료를 부식할 수 있으며, 렌즈 옆벽이 가파르고 곧음을 보장할 수 있으며, 습식 식각은 화학 용액에 의해 선택적으로 부식되고, 가장자리를 부드럽게 하거나 곡률을 조정할 수 있으며, 양자는 협조하여 이상적인 곡면 형태를 조각한다.열용융성형도 관건으로서 온도, 시간을 정확하게 통제하고 재료가 고체상태에서 류동하여 재창조되도록 하며 곡률오차를 수정하고 고정밀도 광학표면을 형성한다.

검측 단계의 원자력 현미경은 가볍게 스캔하여 3차원 표면의 윤곽을 그리고 거친도, 곡률 반경을 계량화한다;광학 검측 시스템은 실제 광로를 시뮬레이션하고, 평행광을 투사하며, 초점, 연사 효과를 분석하고, 실시간으로 가공 하자를 피드백하여 제때에 다시 작업할 수 있도록 한다.재료 선별에서 정교한 조각, 가혹한 검측에 이르기까지, 마이크로 렌즈 어레이 가공은 한 걸음 한 걸음 나아가며, 에너지 부여 과학기술은 더욱 높은 성능 차원으로 나아간다.