다광자 중합 포토레지스트(Multiphoton Polymerization Photoresist)는 초속 레이저 3D 미나 가공을 위해 특별히 설계된 특수 광 민감 소재이다.다광자 중합 포토레지스트는 초속 레이저 3차원 미나 가공을 위해 설계되었으며, 선택 시 핵심 성능 지표를 종합하여 정밀도, 효율 및 응용 적합성을 확보해야 한다.

장면 적용:

생물의학: 마이크로 흐름 제어 칩, 생체 모방 브래킷 제조, 빛 유발제 생물 독성을 피한다;‌

광자 부품: 3차원 광자 결정체, 마이크로 렌즈 배열 가공;

정밀기계: 소자 직사, 복잡한 공중 구조를 지원합니다.

주요 성능 지표 선택 기준:

해상도: 최소 피쳐 크기 (일반적으로 100nm 레벨이 필요함) 를 결정하고, 고해상도는 마이크로 렌즈나 광자 결정과 같은 더 정교한 구조를 만들 수 있도록 지원합니다.그러나 비용과 성능을 따져 과도한 투입을 피해야 한다.‌

민감도: 노출 에너지에 대한 민감도를 반영하며, 높은 민감도는 레이저 노출 용량을 낮추고 가공 효율을 향상시킬 수 있다;그러나 감도가 높으면 환경 민감도가 높아질 수 있습니다.‌

명암비: 패턴 가장자리의 날카로움에 영향을 주고 높은 명암비 (90 ° 에 가까운 측벽) 로 선의 흐림을 줄이고 구조의 정확성을 높인다.‌

현영 성능: 미노출 영역 제거를 확보하고 잔여물을 줄인다;선택할 때는 현상 속도와 균일성에 주목해야 한다.‌

기계성능: 경도, 인성 및 인장 저항성을 포함하여 도포나 가공 중에 변형되거나 갈라지는 것을 방지한다.‌

내화학성과 열 안정성: 부식제, 세척제 및 고온 처리 (예: 구이) 에 견디어 도형이 왜곡되지 않도록 한다;열 안정성은 다광자 중합의 고에너지 레이저 환경에 특히 중요하다.‌

순도: 불순물 함량은 ppb 등급으로 엄격히 통제해야 하며, 순도가 높으면 미세 결함 위험을 줄여야 한다.