열식 원리의 MFM의 경우 핵심 부품은 가열사와 온도 센서이다.기체가 가열사를 통과할 때 일부 열량을 가져가 가열사의 온도를 떨어뜨린다.열전도 법칙에 따르면 기체가 가져가는 열량은 질량 유량과 정비례한다.온도 센서는 가열사의 온도 변화를 실시간으로 모니터링하고 내장 회로로 신호를 전송합니다.회로는 온도 변화율을 계산하여 가스 정압 비열 용량(Cp 값)과 결합하여 가스의 질량 유량을 직접 도출하며, 온도나 압력 파라미터를 추가로 측정할 필요가 없다.예를 들어, 반도체 제조에서 MFM은 실리콘 가스의 흐름을 정확하게 제어할 수 있으며, 환경 온도가 ± 10 ℃ 변동하더라도 측정 오차는 ± 0.5% 이내로 제어됩니다.

일부 MFM은 항온차 또는 항전력 기술을 사용하여 성능을 더욱 최적화합니다.항온차형은 가열사와 기체 간의 고정온도차를 유지함으로써 실시간으로 가열전력을 조정하여 유량 변화를 보상한다;항전력형은 가열전력을 고정시켜 온도차 변화를 측정하여 유량을 반추한다.이 두 가지 기술은 모두 디지털 신호 처리 알고리즘을 내장하여 가스 열전도 계수의 차이를 자동으로 수정하고 질소, 아르곤과 같은 다른 가스의 측정 정밀도를 보장합니다.

MFM의 불필요 온압 보정 특성은 산업 시나리오에서 큰 이점을 제공합니다.예를 들어, 진공 도금 장비에서 가스 압력은 진공에서 10MPa까지 크게 변동할 수 있으며, 전통적인 체적 유량계는 빈번하게 교정해야 하지만, MFM은 압력 환산 없이 표준 상태의 품질 유량 (예: sccm/slm) 을 직접 출력할 수 있다.또한 폭(50:1) 및 빠른 응답(<100ms) 특성으로 연소 제어, 가스 혼합과 같은 동적 프로세스에 이상적입니다.