기술 원리:

전자 소스 기술
쇼트 기장 발사 또는 열장 발사 전자총을 사용하여 강한 전장을 통해 금속 전자를 속박에서 벗어나게 하여 높은 밝기, 높은 상관성의 전자빔을 형성한다.그 밝기는 전통적인 열발사전자총을 훨씬 초과하며 빔반점의 직경은 1nm보다 작을수 있어 영상해상도를 뚜렷이 제고시킬수 있다.

전자 광학 시스템
전자빔은 전자기렌즈의 초점을 거쳐 편전된후 미세탐침을 형성하여 견본표면에서 한줄한줄씩 스캔하여 2차전자, 배산사전자 등 신호를 산생한다.이 신호들은 탐지기에 의해 수집되고 처리되어 샘플의 형태, 성분을 반영하는 이미지를 생성합니다.

진공 시스템
고진공 환경을 유지하고 전자빔 산란과 시료 오염을 방지하며 신호 안정성을 확보한다.일부 모델은 물 또는 비전도 샘플을 직접 관찰할 수 있는 저진공 모드를 지원한다.

데스크탑 발사 스캐닝 렌즈성능 매개 변수:

해상도: 2차 전자상 해상도는 1.0nm에 달하며 일부 모델은 저전압 (1kV) 에서도 1.4nm 해상도를 유지할 수 있어 절연이나 전자빔 민감 샘플을 관찰하기에 적합하다.

배수 확대: 거시적 형태에서 나노 구조에 이르는 분석 수요를 100만 배까지 커버할 수 있다.

가속 전압: 범위는 일반적으로 0.2-30kV이며 샘플 손상을 줄이기 위해 저전압 이미징을 지원합니다.

탐지기: 2차 전자 탐지기 (SE), 배산란 전자 탐지기 (BSE) 및 에너지 분광기 (EDS) 가 표준으로 장착되어 있어 형태 관찰과 원소 분석을 동시에 할 수 있다.

샘플대: 큰 사이즈의 샘플을 지원하며 일부 모델은 경사회전기능을 장착하여 다각도의 관찰을 실현한다.