장치 소개

스캔 전자현미경+전자빔 노출

차이스sigma300 스캐닝 렌즈는 마이크로미터 및 마이크로미터 수준의 전도성 재료의 재료 표면 구조를 관찰하는 데 사용되며 용도가 광범위하다.응집 상태 방향은 주로 제작된 마이크로회로, 전도 등 재료의 결과 감정을 검사하는 데 쓰인다.

스캐닝 렌즈는 Raith 전자빔 노출 소프트웨어를 탑재하여 차원형 회로의 설계와 노출을 실현할 수 있으며, 최대 쓰기 공간은 1000um, 최고 정밀도는 100nm이다.

성능 지표: 해상도: 20nm---10kV, 가속 전압: 100V-30kV, 증폭 배수: 50-500K, 탐지기: 2차 전자 탐지기 SE2, Inlens 탐지기 및 적외선 CCD 카메라.

주요 응용: 전도성 재료와 비전도 재료의 표면 형상을 관찰하여 표면 형상의 2차 전자상을 얻는다.

샘플 요구사항: 고체 비분말 건조 샘플, 샘플 표면이 깨끗하고 기름때가 없으며 자성이 없으며 쉽게 자화되지 않으며 샘플에는 철 (Fe), 코발트 (Co), 니켈 (Ni) 이 함유되어서는 안 된다.높이는 20mm 미만, 지름은 50mm 미만입니다. 다공류 또는 습기가 잘 차는 샘플은 미리 진공 건조 처리하십시오.샘플은 전도성이 있어야 한다.만약 견본이 전기를 전도하지 않는다면 도금, 탄소 등 전도막의 처리를 진행해야 한다.

주: 글은 상해교통대학 물리와 천문학원 공고플랫폼에 전재되였다.《스캔 전자 현미경 & 전자빔 노출》