1. 프로젝트 배경: 반도체가 제2의 발전 곡선을 맞이하다

생성식 인공지능에 힘입어 최근 2년 동안 반도체 산업이 크게 반등했다.여러 방면의 예측에 따르면 반도체업종은 지속적으로 성장할것이며2030연간 돌파 전망1조 달러 이정표.우리 나라에서는 반도체가'목을 조이는'심각한 현실에 직면하여 그 발전 속도가 빠르고 수요량이 비교적 크다.국가는 반도체 발전에도 깊은 관심을 기울이고 있으며 지속적으로 지원 정책을 제시하고 있다.

2. 기업 개황: 반도체 기술 국산화에 주력

정량과학기술서비스의 모 반도체기업은 국산화대체에 진력하고 탄화규소공예를 전문적으로 배치하여 다년간의 공예축적을 거쳐 현재 각식공예설비, 박막침적공예설비 등 일련의 제품을 형성하였는데 주로 탄화규소, 질화갈륨 등 화합물반도체가공에 사용된다.

3. 작업 상황 수요: 공급 주기 초과, 생산 품질 보장

이 반도체 기업은 하류 고객에게 칩의 기능층을 형성하기 위해 기저재에 박막 레이어를 제작하고 퇴적하는 박막 퇴적, 각식, 젤 제거 등의 장비를 제공한다.화학 기상에 퇴적 (CVD는) 과정에서 액체원재료를 기액혼합증발기로 증발하여 혼합함으로써 퇴적과정에서 균일한 박막을 형성해야 한다.

이 반도체 기업은 해외 브랜드를 대체하기 위해 필요하며 다음과 같은 요구를 제기합니다.
1.공급 주기가 짧고 안정적;
2.액체가 충분히 증발하도록 확보한다.
3.응답 속도가 빠르고 혼합 증발 기체가 고르게 출력된다;

4.액체 유량 정밀도가 규정 표준에 도달하다..

4. 솔루션: 공급주기가 짧고 생산품질을 보장한다

수요를 파악한 후, 우리는 혼합된 매체와 작업 상황에 근거하여 고객을 위해 가스 혼합 증발 시스템을 설계했다.

컨트롤 증발 혼합기 시스템 구성x1, 액체 품질 유량 컨트롤러x1, 가스 품질 유량 컨트롤러x1, 온도 제어기x1。

그림: 가스 혼합 증발 시스템에 사용되는 ACU20CEM 제어 증발 혼합기 제품

시스템 구성은 다음과 같습니다.

제어 증발 혼합기:기체 최대 양정 10ln/min, 액체(물) 최소 양정 120g/h.
액체 품질 트래픽 컨트롤러:정확도 ±0.25% F.S, 반복 정밀도 0.05% F.S.
가스 품질 유량 컨트롤러:정확도 ±0.5% F.S, 반복 정밀도 ±0.2% F.S.

온도 제어기:최대 200 ℃ ~300 ℃ 의 고온을 제어할 수 있어 지정된 매체의 증발 조건을 충분히 만족시킬 수 있다.

구체적인 매개 변수 소통이 있으면 페이지의 제품 매니저에게 연락하세요!